45所:曝光机在MEMS领域迎来新突破(2017-3-29)



45所:曝光机在MEMS领域迎来新突破

日前,中国电子科技集团公司第四十五研究所研制的曝光机打入到MEMS工艺线,打破了MEMS工艺线长期被国外光刻设备垄断的局面。

MEMS工艺线要求在硬接触曝光条件下,进行胶膜厚度的一次曝光和套刻,对分辨率及准精度的要求十分苛刻。结合MEMS工艺特色,项目组对光学系统等技术进行改进,工艺考核得到客户认可。项目组将以此为契机,争取在MEMS领域内,提升影响力,打造新的经济增长点。

(来自:45所)