北方华创微电子全面进入14nm时代(2017-4-17)



北方华创微电子全面进入14nm时代

随着北京北方华创微电子装备有限公司28纳米工艺设备陆续实现商用化,14纳米工艺设备开发也取得了突破性进展。由北方华创微电子自主研发的应用于14nm先进制程的等离子硅刻蚀机、单片退火系统已正式进入集成电路主流代工厂并获得订单,LPCVD(低压气相沉积)和Hardmask PVD(硬掩膜沉积)设备也已获得集成电路主流代工厂订单即将进入生产线。可以说,北方华创微电子已全面进入14nm时代。

14纳米集成电路制造技术是目前中国大陆最先进的半导体工艺制造技术,自14nm(包括14nm)之后,采用FinFET3D结构工艺已成为主流技术。14纳米FinFET是一种新型多栅3D晶体管,和传统的平面型晶体管相比,FinFET器件具有更显著的功耗和性能优势,14nm FinFET 3D工艺引入了截然不同的工艺流程,这对其流程中的关键制造设备带来了更高的挑战。北方华创微电子14纳米制程设备陆续进入集成电路主流代工厂不仅展示了中国集成电路装备技术的不断进步,也预示着中国集成电路产业即将迈入全新的14nm技术时代。

(来自:北方华创)