ASML推进EUV影响整个半导体设备行业(2017-4-17)



ASML推进EUV影响整个半导体设备行业

据相关机构统计,整个2016年,ASML销售了139台光刻机。在半导体设备行业的市场份额在58%左右,其他的对手包括尼康,佳能等。

当然了,半导体设备行业最大的故事是下一代光刻机极紫外光刻机(EUV),ASML在这方面是毫无疑问的霸主,其极紫外光刻机去年销售了四台,单台的平均售价达1.1亿美元,最新EUV有望在未来几年成为主流。

随着半导体制程工艺演变,工艺推进的成本也越来越高,如今能负担起最新制程研发的基本只剩四家:GlobalFoundriesIntel,三星和台积电。这几家公司采购新一代光刻机的计划对整个行业的推动都极为重要,接下来几代制程工艺极紫外光刻机是核心,Intel,三星,台积电都曾对ASML投资以支持其产品研发。三星计划在2018年利用EUV实现7nm工艺;台积电今年已经加快了7nm步伐,将在今年二季度测试EUV,计划2019年进入5nm制程;Intel将在2020年进入7nmGlobalFoundries将在2018年生产7nm芯片,2020年用到EUVASML曾在1月表示公司2018年的首批订单已经到手,可见需求量之巨大。

谁会受伤?

由于成本技术原因,ASML的对手尼康,佳能在高端光刻机上竞争力明显不足,但在中端产品市场仍有一定份额。置购成本(Cost of Ownership)是衡量购买哪个系统的一个关键指标,从尼康和佳能的CoO数据可以看出,影响置购成本的因素有很多,不仅包括设备,还包括材料等等。

EUV的大获成功对尼康和佳能肯定都不是一件好事。更重要的是,对整个半导体行业的供应也会有巨大影响,包括其他设备,材料等方面,最容易受影响的可能就是AMATLRCXPLAB这些上一代光刻设备生产厂家。EUV的大获成功对尼康和佳能肯定都不是一件好事。

(来自:华盛证券)