北方华创微电子:研发成功新一代二氧化硅干法去除设备92019-4-18)



北方华创微电子研发成功新一代二氧化硅干法去除设备

北京北方华创微电子装备有限公司以下简称北方华创微电子近期发布了应用于IC领域干法清洗二氧化硅的新型大产能高性能非等离子体干法去除设备Excor D630。该设备基于成熟的Polaris 8K平台构架通过采用非等离子体干法去除技术大幅提升了工艺性能可更好地满足逻辑和存储器芯片制造领域先进制程的需求

集成电路先进制造工艺进入14nm以后器件由传统的平面结构改为立体栅结构工艺复杂程度急剧增加对去除工艺的要求也越来越高传统湿法溶液清洗已经无法满足要求干法去除设备(Dry clean)使用化学反应气体和催化剂直接与薄膜发生化学反应通过工艺集成可实现精确的工艺过程控制更高的底部清洗效率, 更适用于满足先进逻辑和存储市场的工艺需求市场潜力巨大北方华创微电子从2016年开始深入二氧化硅干法清洗技术的研发经过自主研发与验证该设备的工艺选择比均匀性颗粒和稳定性等技术指标均能满足国内先进工艺技术要求并已凭借其优越的技术性能获得客户信任

来自北方华创