北方华创微电子:研发成功原子层刻蚀设备,为高端装备再添新秀(2019-4-18)



北方华创微电子研发成功原子层刻蚀设备为高端装备再添新秀

近日北京北方华创微电子装备有限公司以下简称北方华创微电子自主研发的原子层刻蚀(Atomic Layer Etching,ALE)设备成功进入行业知名客户的生产线为国产设备在先进制造高端装备等领域再添新秀

传统等离子刻蚀设备在进入14nm以下技术代以及其它低损伤要求的刻蚀领域以后会面临诸如刻蚀损伤负载效应以及控制精度等一系列挑战而最佳的解决方案是原子层刻蚀技术基于循环方式的原子层刻蚀在原理上与常规的等离子体刻蚀有所不同

北方华创微电子开发的原子层刻蚀设备集合了等离子能量精确控制超快速气体切换射频与气体同步控制等关键技术通过表面修饰表面去除的循环重复达到逐层刻蚀的效果实现了精确可控均匀性好表面粗糙度小损伤低无负载效应的刻蚀制程该设备已顺利实现客户端工艺验证

原子层刻蚀技术是集成电路芯片制造领域高端科技的代表可以广泛应用于14nm以下集成电路硅基半导体器件、III-V族化合物器件石墨烯等二维材料器件的制造中

来自北方华创