2026-06-18 14:34:20
日前，北方华创科技集团股份有限公司（简称“北方华创”）正式发布全新12英寸气体团簇离子束（GCIB）刻蚀设备Acme Glaion130。作为公司高端装备业务布局的又一标杆新品，设备突破三大核心技术瓶颈，覆盖先进逻辑、存储、封装、硅光芯片及AR/VR应用场景，彰显北方华创在高端半导体装备领域不断提升的自主创新实力。
Acme Glaion130成功攻克业内三大技术难题，实现关键技术自主：
气体团簇离子源技术：与常规单体离子源技术相比，刻蚀速率更快、表面质量更优、工艺损伤更低；团簇离子源的稳定性和束流质量达到同类型设备的更优水平，为原子级刻蚀提供核心支撑。
高速运动下电极技术：可实现晶圆的精准、快速定位，解决了高速运动下的稳定性难题，保障加工精度。
动态精确控制算法：搭载原位膜厚量测装置，形成所需刻蚀Map并优化载台运动轨迹，实现晶圆局部定点精修。
Acme Glaion130实测性能优异，整面刻蚀膜厚控制精准，保持原子级光滑表面，综合性能达到同类型设备领先水平。
（来自：北方华创）
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